Имена | |
---|---|
Другие имена триоксид индия, полуторный оксид индия | |
Идентификаторы | |
3D модель ( JSmol ) |
|
ChemSpider | |
Информационная карта ECHA | 100.013.813 |
Номер ЕС |
|
CID PubChem |
|
УНИИ | |
Панель инструментов CompTox ( EPA ) |
|
| |
| |
Характеристики | |
В 2 О 3 | |
Молярная масса | 277,64 г/моль |
Появление | желтовато-зеленые кристаллы без запаха |
Плотность | 7,179 г/см 3 |
Температура плавления | 1910 °C (3470 °F; 2180 K) |
нерастворимый | |
Ширина запрещенной зоны | ~3 эВ (300 К) |
−56,0·10 −6 см 3 /моль | |
Структура | |
Кубический, ( Биксбиит ) cI80 | |
Ia 3 , № 206 | |
а = 1,0117(1) нм [1] | |
Формульные единицы ( Z ) | 16 формул на ячейку |
Опасности | |
Маркировка СГС : [2] | |
Опасность | |
Н315 , Н319 , Н335 | |
Р260 , Р261 , Р264 , Р270 , Р271 , Р280 , Р302+Р352 , Р304+Р340 , Р305+Р351+Р338 , Р312 , Р314 , Р321 , Р332+Р313 , Р337+Р313 , Р362 , Р403+Р233 , Р405 , Р501 | |
NFPA 704 (огненный алмаз) | |
Если не указано иное, данные приведены для материалов в стандартном состоянии (при 25 °C [77 °F], 100 кПа). |
Оксид индия ( III) ( In2O3 ) — химическое соединение , амфотерный оксид индия .
Аморфный оксид индия нерастворим в воде, но растворим в кислотах, тогда как кристаллический оксид индия нерастворим как в воде, так и в кислотах. Кристаллическая форма существует в двух фазах: кубической ( тип биксбиита ) [1] и ромбоэдрической ( тип корунда ). Обе фазы имеют ширину запрещенной зоны около 3 эВ. [3] [4] Параметры кубической фазы указаны в информационном поле.
Ромбоэдрическая фаза образуется при высоких температурах и давлениях или при использовании неравновесных методов роста. [5] Она имеет пространственную группу R 3 c № 167, символ Пирсона hR30, a = 0,5487 нм, b = 0,5487 нм, c = 1,4510 нм, Z = 6 и расчетную плотность 7,31 г/см 3 . [6]
Тонкие пленки оксида индия , легированного хромом (In 2−x Cr x O 3 ), являются магнитным полупроводником, демонстрирующим высокотемпературный ферромагнетизм , однофазную кристаллическую структуру и полупроводниковое поведение с высокой концентрацией носителей заряда . Он имеет возможные применения в спинтронике в качестве материала для спиновых инжекторов. [7]
Тонкие поликристаллические пленки оксида индия, легированные Zn2 +, обладают высокой проводимостью (проводимость ~105 См /м) и даже сверхпроводимостью при температурах жидкого гелия . Температура сверхпроводящего перехода Tc зависит от легирования и структуры пленки и составляет менее 3,3 К. [ 8]
Массовые образцы могут быть приготовлены путем нагревания гидроксида индия (III) или нитрата, карбоната или сульфата. [9] Тонкие пленки оксида индия могут быть приготовлены путем распыления мишеней индия в атмосфере аргона / кислорода . Они могут быть использованы в качестве диффузионных барьеров (« барьерных металлов ») в полупроводниках , например, для ингибирования диффузии между алюминием и кремнием . [10]
Монокристаллические нанопроволоки могут быть синтезированы из оксида индия методом лазерной абляции, что позволяет точно контролировать диаметр до 10 нм. Из них были изготовлены полевые транзисторы . [11] Нанопроволоки из оксида индия могут служить чувствительными и специфическими датчиками окислительно-восстановительного белка . [12] Метод золь-гель является еще одним способом приготовления нанопроволок. [ необходима цитата ]
Оксид индия может служить полупроводниковым материалом , образуя гетеропереходы с p - InP , n - GaAs , n- Si и другими материалами. Слой оксида индия на кремниевой подложке может быть осажден из раствора трихлорида индия , метод, полезный для производства солнечных элементов . [13]
При нагревании до 700 °C образуется оксид индия(III) In2O , (называемый оксидом индия(I) или субоксидом индия), при 2000 °C он разлагается. [9] Он растворим в кислотах, но не в щелочах. [9] С аммиаком при высокой температуре образуется нитрид индия : [14]
С K 2 O и металлическим индием было получено соединение K 5 InO 4 , содержащее тетраэдрические ионы InO 4 5− [15] . Реакция с рядом триоксидов металлов приводит к образованию перовскитов [16] , например:
Оксид индия используется в некоторых типах батарей, тонкопленочных инфракрасных отражателях, прозрачных для видимого света ( горячие зеркала ), некоторых оптических покрытиях и некоторых антистатических покрытиях . В сочетании с диоксидом олова оксид индия образует оксид индия-олова (также называемый оксидом индия, легированным оловом, или ITO), материал, используемый для прозрачных проводящих покрытий.
В полупроводниках оксид индия может использоваться как полупроводник n-типа, используемый в качестве резистивного элемента в интегральных схемах . [17]
В гистологии оксид индия используется в составе некоторых красителей .
{{cite journal}}
: CS1 maint: несколько имен: список авторов ( ссылка )